|
Politica de confidentialitate |
|
• domnisoara hus • legume • istoria unui galban • metanol • recapitulare • profitul • caract • comentariu liric • radiolocatia • praslea cel voinic si merele da aur | |
Analiza comparativa a tipurilor de memorie | ||||||
|
||||||
1. Sisteme de memorie
Putem defini functia de memorare ca fiind posibilitatea de regasire a unor
informatii reprezentata sub forma binara care au fost anterior stocate. v9l7lv 2.Clasificarea si caracteristicile unei memorii In functie de modul de utilizare in raport cu un sistem de calcul a acestor
memorii avem urmatoarele tipuri de functii de meorare: Caracteristicile mai importante ale unei memorii sunt : · geometria sau modul de organizare a memoriei reprezentat de lungimea unui cuvant si numarul de cuvinte memorate. · capacitatea memoriei ; reprezentand numarul total de biti ce pot fi memorati ; se exprima in general in multipli de 1k = 1024 de biti. · timpul de acces la memorie; se exprima in ausi sau ansi reprezentand timpul necesar pentru citirea sau scrierea unor informatii in memorie. · Puterea consumata ; pentru caracterizarea din acest punct de vedere a unei memorii , se foloseste puterea consumata raportata al un bit de informatie , respectiv raportul dintre puterea totala consumata de circuit si capacitatea acestuia ; se masoara in auw/biti. · Volatitatea ; o memorie este volatila daca informatia inscrisa se pierde in timp ; pierderea informatiei se poate datora fie modului de stocare a acesteia (memoriei dinamice fie datorita disparitiei tensiunilor de alimentare ale circuitului. 3. Memorii ROM ;Memorii ROM programabile Memoriile Rom sunt circuite de memorie ale caror continut este programat la fabricare si nu poate fi schimbat de utilizator. Un exemplu de celula de baza pentru un astfel de memorie este dat in figura de mai jos: Ea este constituita dintr-un tranzistor cu efect de camp a carui tensiune de prag difera in functie de continutul informational al locatiei respective . Daca la aplicarea unui impuls pozitiv pe grila tranzistorul conduce atunci el se comporta ca un scurtcircuit drena sursa , informatia inscrisa fiind 0 logic; daca ramane blocat atunci avem 1 logic . Obtinerea unor tranzisotare cu tensiuni de prag diferite se face printr-un strat de oxid de grosime corespunzatoare intre grila tranzistorului si substrat Exista si memorii ROM-PROGRAMABILE (PROM si EPROM). Memoriile PROM sunt circuite de memorie al caror continut este programat o singura data de utilizator.Dupa inscriere informatia nu mai poate fi stearsa. Celula de memorie a unor astfel de circuite au la baza un fuzibil din polisiliciu care este ars la programare .Celula de baza a unei memorii PROM realizata cu tranzistoare bipolare este data in figura de ami jos : Initial toate fuzibilele memoriei sunt scurtcircuitate . Daca pe poarta izolata este acumulata sarcina electrica negativa atunci aplicarea
unor tensiuni pozitive pe grila a doua(Vc) nu poate aduce in stare de conductie
tranzistorul. Daca pe poarta izolata nu este acumulata o sarcina atunci aplicarea
tensiunii pozitive pe Vc creaza un camp care duce la formarea canalului n si
la conductia tranzistorului . Nivelul logic pe linia de bit este 1 cand tranzistorul
este blocat si 0 cand acesta conduce. Injectarea de sarcini negative pe grila
izolata se face prin aplicarea unei tensiuni drena , si o tensiune pozitiva
pe grila . Tensiunea Vds mare , duce la campul electric intern intens , trec
prin stratul de oxid foarte subtire si se acumuleaza in grila izolata .Pentru
stergereainformatiei din celula si revenirea in stare neprogramata (tranzistor
blocat)se expune circuitul la actiunea radiatiei ultraviolete . Electronii din
grila preiau energie de la radiatie si trec inapoi in substrat prin stratul
izolator. Celula de memorie pentru acest tip de circuit este formata din doua tranzistoare TEC obisnuit (T2) si tranzistorul prezentat mai sus (T1) care este un TEC-MOS.Intr-o celula de memorie stearsa , grila izolata este incarcata cu sarcina negativa si tranzistorul T1 este blocat. Stergerea informatiei din celula se face astfel : se aplica tensiunea pozitiva(+20 V) pe linia de selectie cuvant punand in conductie tranzistorul T. Drena acestuia se conecteaza la potential zero si se aplica +20V pe linia de programare .Datorita campului electric intern mare . electronii care trec din substrat prin efect tunel si se acumuleaza in grila izolata ,formand o sarcina negativa . Inscrierea informatiei in celula se face aplicand +20V pe linia selectie cuvant(WL) si +18V in drena tranzistorului T2 in timp ce linia de programare este la potential zero .Campul electric format intre grila si substrat (= substrat ,- grila ) smulge electroni din grila a doua , aceasta acumuleaza sarcina pozitiva si tranzistorul T1 intra in conductie prin formarea canalului “n” intre drena si sursa. |
||||||
|
||||||
|
||||||
Copyright© 2005 - 2024 | Trimite document | Harta site | Adauga in favorite |
|